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婚后李皓也没休息多长时间，就重新回到了工作岗位。
光刻机研究推进，神麓科技要研发新产品，晶圆厂要新建，李皓要忙的事情还有很多。
好在一切都是值得的，就在李皓结婚的当年，可以制作65nm芯片的193nm光刻机，正式宣布量产化。
虽然就在后面一年，阿斯麦就推出了45nm光刻机，从技术上又完成了一次超越。
但是这种你超我赶的事情，在前世的光刻机领域，可从没有中国的身影。
而且在之后的很长时间，至少在浸润式技术没有发展到极限的情况下，中国都还能有追赶的机会。
至于新一代的EUV（极紫外）光学系统，那就是未来的事情了。
不过在李皓的倡导下，国家已经发动了有关高校和企业开始了初步研究，相信破局的一天，也不会太晚的。
之后的几年里，国内光刻机和芯片设计生产领�
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